| 词汇 |
“LPCVD”是“Low Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写，意思是“低压化学气相沉积” |
正文 |
| 释义 |
英语缩略词“LPCVD”经常作为“Low Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“低压化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词LPCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词LPCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。
“LPCVD”（“低压化学气相沉积）释义 - 英文缩写词：LPCVD
- 英文单词：Low Pressure Chemical Vapor Deposition
- 缩写词中文简要解释：低压化学气相沉积
- 中文拼音：dī yā huà xué qì xiāng chén jī
- 缩写词流行度：32058
- 缩写词分类：Academic & Science
- 缩写词领域：Electronics
以上为Low Pressure Chemical Vapor Deposition英文缩略词LPCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。
英文缩略词LPCVD的扩展资料-
Synthesis of Carbon Nanotubes by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) and Their Applications
碳纳米管的低压化学气相沉积(LPCVD)法制备及其应用研究
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Nano-sized silicon films with large area were prepared by normal Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) method.
利用普通低压化学气相沉积(LPCVD)技术在玻璃衬底上制备了大面积的纳米硅薄膜。
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In this paper CNT film was deposited on metal substrate by low temperature and low pressure chemical vapor deposition ( CVD ). Field emission cathode was made by thin-film and thick-film process.
本文采用低温低压化学气相沉积(LPCVD)（CVD）方法在金属衬底上直接生长碳纳米管薄膜，并分别运用薄膜和厚膜工艺，制作场发射阴极。
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Acetylene Flow Rate Effect on Morphology and Structure of Carbon Nanotube Thick Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD)
碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响
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Growth Rate and Surface Morphology of Silicon Nitride Thin Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD)
低压CVD氮化硅薄膜的沉积速率和表面形貌
上述内容是“Low Pressure Chemical Vapor Deposition”作为“LPCVD”的缩写，解释为“低压化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词LPCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。
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